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CF4
包装:采用47L、44L钢瓶充装,也可根据客户需要,分装到8L的气瓶中。用途:四氟化碳是目前微电子工业中用量*的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃
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2022-04-27 |
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二氯二氢硅
二氯二氢硅又名二氯硅烷,分子式SiH2Cl2,分子量101,沸点8.2℃,溶点-122.0常温下呈液化气体,25℃液体密度1.25kg/L,极易水解,在空气中冒白烟,有盐酸气味,水分存在下有极强的腐蚀性。比容:0.239m3/kg(21.1ordm;C, 101.32
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2022-04-27 |
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高纯硅烷
硅烷(sih4)项目名称纯度指标(%)硅烷≥99.9999杂质含量(ppm)氩气(ar)≤0.05氯硅烷(chlorosilane))≤0.15乙硅烷(si2h6))≤0.5氦气(he)≤1一氧化碳(co)≤0.05氧气(o2)≤0.05氮气(n2)≤1氢气(h2)≤20二氧化碳(co2)≤0.05
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2022-04-27 |
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高纯 六氟化硫
包装:采用40l、44l钢瓶充装,也可根据客户需要,分装到2-10l的气瓶中。用途:在半导体生产中用作高密度等离子刻蚀的氟源,不会产生含碳副产品;变压器中的绝缘介质;金属冶炼中的保护气氛。理化性质:六氟化硫(sf6)常态下是
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2022-04-27 |
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